Intel utilizará por primera vez técnicas de nanotecnología en su procesador Prescott
Intel utilizará en sus futuros microprocesadores una técnica de fabricación denominada proceso nanométrico-90 que permitirá que los átomos de silicio de estos componentes estén más espaciados y que los electrones se muevan a mayor velocidad, lo que hará posible que los chips sean más rápidos y potentes, según la firma.
Los chips de Intel producidos con esta tecnología incorporarán nuevas técnicas de aislamiento y componentes internos más pequeños. El primer microprocesador en incluir estos avances será el sustituto del Pentium 4, conocido todavía por su nombre en código, Prescott, que saldrá al mercado en la segunda mitad del 2003.
Los fabricantes de microprocesadores han seguido hasta ahora a rajatabla los principios de la Ley de Moore, que dice que el número de transistores contenidos en un chip se duplica cada año, pero los límites físicos en la miniaturización están cada vez más cerca.
La era de la nanotecnología, la ciencia que trabaja en la escala de lo atómico, parece llegar para el mayor productor de microprocesadores del mundo aunque sea por el momento de forma incipiente.
El proceso empleado por Intel ha utilizado técnicas de nanotecnología solamente en algunos de los componentes del chip.
En el complejo proceso seguido para fabricar los nuevos microprocesadores, la compañía ha rediseñado los materiales aislantes entre los diferentes estratos de los chips y ha reemplazado la base de silicio de éstos por una basada en carbono. Los nuevos chips contendrán siete capas de transistores en lugar de las seis habituales.
'Este proceso hace posible estirar el silicio y que los componentes estén más espaciados, lo que permitirá incrementar el flujo actual del 10% al 20%, en tanto que los costes sólo subirán un 2%', señala la firma.
Los microprocesadores fabricados con esta técnica serán más rápidos que los actuales, pero también contendrán más transistores, gracias a la innovadora técnica de fabricación.